第585章 国产光刻机崛起的希望！高通？小丑罢了！”的内核，直接决定了芯片的最小线宽、集成度与性能上限。,e*r+c\i*y\a?n¨.`c?o!m′

只需一次曝光，就能把掩膜版上的电路图，复制到晶圆表层。

而传统的duv光刻机，需通过“多重曝光”，才能形成芯片所需的精细线路。

具体来说，就是要对同一局域的光刻胶进行2到4次光刻与显影操作，最终效果才相当于 euv光刻机一次曝光所能达到的水平。

梁劲松从格罗方德、联华电子手里购买的nxt 1950i duv光刻机，虽然也能生产14纳米、乃至10纳米的芯片，但必须利用多重曝光工艺。

然而，多次曝光会导致光刻步骤增加，生产周期变长、良品率骤减、成本迅速上升，至少要高个30到50。

这也是为何阿斯麦只要不向华国的fab工厂出售euv光刻机，便能牢牢卡住整个半导体行业脖子的主要原因。

即便掌握了其他关键技术，也会因制造成本居高不下，从而失去商业价值与市场竞争力。

就拿同一款芯片产品来说，高通以20美币的价格出售仍有毛利可赚，但国内芯片制造商若同样以20美币的价格售卖，反而要亏损三成。

面对这样的成本与盈利差距，采购方自然不愿买单。

陈延森提出的磁约束放电激发方式，则放弃了激光轰击液态金属锡、激发极深紫外光的方案，转而采用在强磁场约束下，通过高功率脉冲放电，在金属锡靶表面产生稳定、高亮度等离子体的技术路径。

优点显而易见，固态靶材加高压放电，机械结构更简单，稳定性更高。

这是一项差异化极大的技术，可以绕过大量现有的lpp专利壁垒墙。

“辛苦了，继续在磁约束放电激发技术的基础上，深耕延伸专利，以防欧美的半导体公司使用微创新的手段，反过来限制我们。”

陈延森在听完林南的汇报后，当即叮嘱道。

高通为什么栽了？

还不是他在射频、通信译码等技术上，设置了全新的专利壁垒，把高通的出口给堵住了。

想都别想！

自己走过的路，当然要堵死！

他可不想有朝一日，突然冒出来一家公司，起诉星源科技侵权。+b\q′z~w?w·._n\e·t?

“好的老板，我知道构建专利生态壁垒的重要性。”林南立即应道。

他是沪城光学精密机械研究所的高级工程师，在行业内小有名气。

之前，星源科技和华科协会下属光电所联手推进攻关计划时，胡锐晖就向陈延森推荐了林南。

陈延森要钱给钱，要器材给器材，完全是一副财大气粗的样子。

林南在研究所蹉跎了十几年，眼看民营公司的研究员都拿到了诺贝尔化学奖，他哪里还坐得住？

在收到陈延森的邀请后，二话不说，就添加了星源科技的光学研究实验室，与光电所的院士们并肩作战，试图另辟蹊径，查找一种可商用的euv光源激发方式。

起初毫无进展，直到陈延森指了一条天马行空的路线。

用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，在放电局域周围设置一组超导磁体线圈，产生一个特殊的磁镜场构型。。

林南原本不以为然，但在研究一段时间后，他发现老板的方案并非是空想，而是具备极强的可实现性。

事实证明，这条路是对的！

“行，先这样。”

陈延森极为平淡地挂了